模拟电路CMOS栅极工艺分立栅极工艺是模拟电路CMOS栅极工艺中的重要组成部分。然而，在工艺过程中容易产生静电问题，对栅氧品质造成不良影响。为了解决这个问题，需要采取一系列措施来去除静电的影响，如增加白光灯照射、加DUV处理以及采用light ash工艺等。这些措施可以有效提高栅氧的品质和器件的可...